Vol. 23 (2013): (NE-2) Cálculo fraccionario
Artículos de Investigación

Variación de la amplitud de interferencia múltiple fraccional de N-haces

E. Alvarado Méndez
Universidad de Guanajuato. Dirección de Apoyo a la Investigación y al Posgrado
M. Trejo Durán
Departamento de Electrónica, División de Ingenierías, Campus Irapuato-Salamanca, Universidad de Guanajuato. Carretera Salamanca-Valle Km 3.5 + 1.8, Comunidad Palo Blanco, Salamanca, Gto.
J. M. Estudillo Ayala
Departamento de Electrónica, División de Ingenierías, Campus Irapuato-Salamanca, Universidad de Guanajuato. Carretera Salamanca-Valle Km 3.5 + 1.8, Comunidad Palo Blanco, Salamanca, Gto.
R. Rojas Laguna
Departamento de Electrónica, División de Ingenierías, Campus Irapuato-Salamanca, Universidad de Guanajuato. Carretera Salamanca-Valle Km 3.5 + 1.8, Comunidad Palo Blanco, Salamanca, Gto.

Publicado 2013-12-01

Palabras clave

  • Periodic structures,
  • multiple interference.
  • Estructuras periódicas,
  • interferencia múltiple.

Cómo citar

Alvarado Méndez, E., Trejo Durán, M., Estudillo Ayala, J. M., & Rojas Laguna, R. (2013). Variación de la amplitud de interferencia múltiple fraccional de N-haces. Acta Universitaria, 23, 36–39. https://doi.org/10.15174/au.2013.582

Resumen

Los patrones periódicos múltiples por interferencia de luz son un problema complicado desde un punto de vista experimental. En este trabajo reportamos un modelo teórico de incidencia de N haces de luz sobre un punto en el espacio. Dos componentes del campo eléctrico son proyectados: azimutal (ángulo formado con la proyección del vector en el espacio sobre el plano x-y) y zenital (ángulo del vector incidente con el eje z). En consecuencia, encontramos la intensidad azimutal y zenital.  Analizamos el caso de amplitud fraccional o número de ha­ces fraccionario. Cuando el cambio de fase es modificado, nos permite visualizar el proceso de cambio de la geometría. Observamos patrones cuasi-lineales, circulares concéntricos de máximos y  mínimos. Algunas aplicaciones de estos patrones pueden encontrarse en sensores y grabado en procesos de litografía.